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產(chǎn)品詳細(xì)介紹：小型粉末PVD包覆系統(tǒng)VTC-16PW是一款小型粉末包覆系統(tǒng)，主要有2英寸磁控濺射頭和振動(dòng)樣品臺(tái)組成

產(chǎn)品簡介：VTC-16-3HD3靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子薄膜濺射儀（直流普通型），控制面板采用觸摸屏模式，基片極限尺寸為2″，放置樣品的直徑為?50mm，加熱溫度達(dá)500℃

產(chǎn)品簡介：GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進(jìn)行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達(dá)50mm，鍍膜厚度可達(dá)300?，特別適用于SEM樣品表面的鍍膜

產(chǎn)品簡介：GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀可對(duì)程序進(jìn)行設(shè)定，并精確控制溫度在200oC-1500oC（或者1200oC-~1700oC）的范圍內(nèi)進(jìn)行變化，可蒸鍍直徑長達(dá)2"的薄膜樣品，在對(duì)樣品進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜的過程中，樣品臺(tái)可進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，以獲得更均勻的薄膜

產(chǎn)品簡介：GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理（直流二極濺射鍍膜是指在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產(chǎn)生的濺射效應(yīng)，使得靶材原子或分子從固體表面射出，在基片上沉積形成薄膜的過程

產(chǎn)品簡介：GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀特別適合對(duì)輕金屬如、Al、Mg、和Li等金屬的蒸鍍，這種鍍膜的方法主要是在真空條件下，加熱蒸發(fā)鎢絲舟中待蒸發(fā)的材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入射到襯底或基底表面，從而凝結(jié)成固態(tài)薄膜的方法