產(chǎn)品型號

SE-Mapping 光譜橢偏儀

主要特點

1、全基片橢偏繪制化測量解決方案

2、支持產(chǎn)品設計以及功能模塊定制化，一鍵繪制測量

3、配置 Mapping 模塊，全基片自定義多點定位測量能力

4、豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結構模型庫，保證強大數(shù)據(jù)分析能力

5、采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍

(193-2500nm)

6、高精度旋轉補償器調制、 PCRSA 配置， 實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集

7、具備全基片自定義多點自動定位測量能力，提供全面膜厚檢測分析報告

1、自動化程度：固定角+mapping

2、應用定位：檢測型

3、基本功能： Psi/Delta、N/C/S、R 等光譜

4、分析光譜： 380-1000nm(可擴至 193-2500nm)

5、單次測量時間： 0.5-5s

6、重復性測量精度： 0.01nm

7、光斑大小： 大光斑 2-3mm,微光斑200um

8、入射角調節(jié)方式：固定角

9、入射角范圍： 65°

10、找焦方式：手動找焦

11、Mapping1 程： 300x300mm

12、支持樣件尺寸： 至 300mm

可選配件

3

真空泵

4

透射吸附組件